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SUSS MicroTec Solutions涂層機 SUSS涂層機全部由德國Sternenfels廠區SUSSMicroTecSolutions生產,分為實驗室手動、半自動中試、全自動量產、噴霧涂層、噴墨涂布五大產品線,覆蓋旋涂、噴霧、噴墨三種涂布工藝,適配6–12英寸晶圓、MEMS、先進封裝、光電子、功率半導體全場景。
產品型號:HP8TT
廠商性質:經銷商
更新時間:2026-07-08
訪 問 量:93
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SUSS MicroTec Solutions涂層機
SUSS涂層機全部由德國Sternenfels廠區SUSSMicroTecSolutions生產,分為實驗室手動、半自動中試、全自動量產、噴霧涂層、噴墨涂布五大產品線,覆蓋旋涂、噴霧、噴墨三種涂布工藝,適配6–12英寸晶圓、MEMS、先進封裝、光電子、功率半導體全場景。

一、全系型號分類與定位
1.LabSpin系列(實驗室手動旋涂機,研發標配)
LabSpin8旋涂機
LabSpin6:最大150mm圓片/100×100mm方形襯底
LabSpin8:最大200mm圓片/150×150mm方形襯底
核心用途:高校實驗室、企業研發打樣、小樣品工藝開發
核心特點
轉速50–8000rpm,轉速精度±1rpm,加速度200–3000rpm/s
最多存儲200套工藝配方,單配方40步可編程
內置GYRSET®密閉旋涂腔,溶劑氛圍穩定,膜厚均勻誤差<±5nm
集成旋涂、puddle浸置顯影、邊緣去膠EBR模塊
臺式緊湊型機身,自帶內置真空發生器,無需外接真空泵
兼容硅、玻璃、SiC、GaN、薄片、異形碎片襯底
2.RCD8/ECD8半自動涂膠顯影一體機(中試/小批量)
ECD8半自動涂布機
適配≤200mm晶圓,旋涂+顯影一體化,MEMS、臨時鍵合膠主流機型
雙模式顯影:浸置puddle/低壓噴霧顯影
真空+機械復合卡盤,可加工翹曲超薄晶圓
膜厚均勻性≤2%,兼容超薄光刻膠~250μm厚膠
腔體316L防腐不銹鋼,全自動噴嘴清洗、背洗選配
觸摸屏工業控制,支持數據導出、遠程工藝追溯
3.ACS全自動量產涂覆平臺(200/300mm大規模產線)
ACS200Gen3
ACS300Gen2
ACS200Gen3/Gen3TE(100–200mm)
Gen3:標準量產,最多4個工藝模塊
Gen3TE增強版:6個旋涂/噴霧模塊,可集成JETx噴墨打印
SUSS涂層機ACS300Gen2/Gen3(200/300mm先進封裝)

量產核心技術亮點
GYRSET®封閉式旋涂腔體:抑制氣流湍流,大幅降低膠材消耗、減少顆粒缺陷,厚膠/薄膠通用
閉環在線膜厚檢測TM300模組:干涉實時測厚,自動修正涂布參數,全片厚度波動極小
模塊化擴展:旋涂、噴霧、噴墨、PEB烘烤、濕法清洗自由組合
SECS/GEM工廠自動化對接,7×24小時不間斷量產
兼容FO-WLP、TSV、3DIC臨時鍵合膠、鈍化層、厚膜光刻膠、Mini/MicroLED介質層
膜厚覆蓋100nm~250μm,適配高低粘度各類有機涂層材料
4.AS8噴霧涂層機(高深寬比、凹凸大形貌專用)
SUSS涂層機AS8噴霧涂布機
區別于旋涂:專門針對凹凸結構、高深孔、厚金屬臺階、翹曲晶圓
雙獨立噴霧分配系統,低壓微霧噴射,臺階覆蓋性遠優于旋涂
無邊緣膠堆積,適合MEMS深槽、功率器件溝槽、厚金屬布線
兼容200/300mm晶圓與6英寸方形基板,研發+小批量兩用
5.PiXDROJETx噴墨涂層模塊(選配ACS平臺)
非接觸式數字噴墨,選擇性局部涂布,節省昂貴功能性材料
應用:微透鏡、焊膏、絕緣膠、光子芯片局部介質層,無需整片旋涂
二、全系通用核心技術(SUSS涂層機標志性特點)
GYRSET®密閉旋涂核心技術
封閉腔體形成均勻飽和溶劑氛圍,抑制邊緣溶劑快速揮發,膜厚一致性行業頂尖;同時減少光刻膠揮發損耗,降低耗材成本。
超寬膜厚適配能力
一套設備兼容納米級薄膠~數百微米厚膠,覆蓋光刻膠、臨時鍵合膠、PI聚酰亞胺、BCB鈍化層、光學涂層。
全襯底兼容
硅、石英玻璃、碳化硅SiC、氮化鎵GaN、藍寶石、超薄載片、翹曲晶圓、方形基板、小片樣品均可加工。
一體化工藝集成
單設備可整合:旋涂/噴霧/噴墨涂布→邊緣去膠EBR→背清洗→PEB烘烤→顯影,減少多臺設備轉運帶來的污染與良率損失。
低缺陷潔凈設計
全機防靜電ESD、防腐不銹鋼腔體、藥液多級過濾、自動腔體清洗,適配Class1/10超高潔凈間。
研發→量產工藝無縫遷移
LabSpin/RCD研發配方可直接導入ACS量產平臺,工藝參數無偏移,大幅縮短新產品轉產周期。
三、典型應用領域
先進半導體封裝:FO-WLP、2.5D/3DIC、TSV臨時鍵合膠涂布
MEMS傳感器:陀螺儀、壓力傳感器、微流控厚膠圖形化
寬禁帶功率器件:SiC/GaN車載、快充器件溝槽噴霧涂覆
光電子:VCSEL、Mini/MicroLED、光學微透鏡、衍射光學元件
科研院所:微納加工實驗室、光子芯片、生物微流控芯片研發
SUSS MicroTec Solutions涂層機