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SUSS MicroTec Solutions涂層機

SUSS MicroTec Solutions涂層機
  SUSS涂層機全部由德國Sternenfels廠區SUSSMicroTecSolutions生產,分為實驗室手動、半自動中試、全自動量產、噴霧涂層、噴墨涂布五大產品線,覆蓋旋涂、噴霧、噴墨三種涂布工藝,適配6–12英寸晶圓、MEMS、先進封裝、光電子、功率半導體全場景。

  • 產品型號:HP8TT
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2026-07-08
  • 訪  問  量:93
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SUSS MicroTec Solutions涂層機

  SUSS涂層機全部由德國Sternenfels廠區SUSSMicroTecSolutions生產,分為實驗室手動、半自動中試、全自動量產、噴霧涂層、噴墨涂布五大產品線,覆蓋旋涂、噴霧、噴墨三種涂布工藝,適配6–12英寸晶圓、MEMS、先進封裝、光電子、功率半導體全場景。

SUSS MicroTec Solutions涂層機

  一、全系型號分類與定位

  1.LabSpin系列(實驗室手動旋涂機,研發標配)

  LabSpin8旋涂機

  LabSpin6:最大150mm圓片/100×100mm方形襯底

  LabSpin8:最大200mm圓片/150×150mm方形襯底

  核心用途:高校實驗室、企業研發打樣、小樣品工藝開發

  核心特點

  轉速50–8000rpm,轉速精度±1rpm,加速度200–3000rpm/s

  最多存儲200套工藝配方,單配方40步可編程

  內置GYRSET®密閉旋涂腔,溶劑氛圍穩定,膜厚均勻誤差<±5nm

  集成旋涂、puddle浸置顯影、邊緣去膠EBR模塊

  臺式緊湊型機身,自帶內置真空發生器,無需外接真空泵

  兼容硅、玻璃、SiC、GaN、薄片、異形碎片襯底

  2.RCD8/ECD8半自動涂膠顯影一體機(中試/小批量)

  ECD8半自動涂布機

  適配≤200mm晶圓,旋涂+顯影一體化,MEMS、臨時鍵合膠主流機型

  雙模式顯影:浸置puddle/低壓噴霧顯影

  真空+機械復合卡盤,可加工翹曲超薄晶圓

  膜厚均勻性≤2%,兼容超薄光刻膠~250μm厚膠

  腔體316L防腐不銹鋼,全自動噴嘴清洗、背洗選配

  觸摸屏工業控制,支持數據導出、遠程工藝追溯

  3.ACS全自動量產涂覆平臺(200/300mm大規模產線)

  ACS200Gen3

  ACS300Gen2

  ACS200Gen3/Gen3TE(100–200mm)

  Gen3:標準量產,最多4個工藝模塊

  Gen3TE增強版:6個旋涂/噴霧模塊,可集成JETx噴墨打印

  SUSS涂層機ACS300Gen2/Gen3(200/300mm先進封裝)

SUSS MicroTec Solutions涂層機

  量產核心技術亮點

  GYRSET®封閉式旋涂腔體:抑制氣流湍流,大幅降低膠材消耗、減少顆粒缺陷,厚膠/薄膠通用

  閉環在線膜厚檢測TM300模組:干涉實時測厚,自動修正涂布參數,全片厚度波動極小

  模塊化擴展:旋涂、噴霧、噴墨、PEB烘烤、濕法清洗自由組合

  SECS/GEM工廠自動化對接,7×24小時不間斷量產

  兼容FO-WLP、TSV、3DIC臨時鍵合膠、鈍化層、厚膜光刻膠、Mini/MicroLED介質層

  膜厚覆蓋100nm~250μm,適配高低粘度各類有機涂層材料

  4.AS8噴霧涂層機(高深寬比、凹凸大形貌專用)

  SUSS涂層機AS8噴霧涂布機

  區別于旋涂:專門針對凹凸結構、高深孔、厚金屬臺階、翹曲晶圓

  雙獨立噴霧分配系統,低壓微霧噴射,臺階覆蓋性遠優于旋涂

  無邊緣膠堆積,適合MEMS深槽、功率器件溝槽、厚金屬布線

  兼容200/300mm晶圓與6英寸方形基板,研發+小批量兩用

  5.PiXDROJETx噴墨涂層模塊(選配ACS平臺)

  非接觸式數字噴墨,選擇性局部涂布,節省昂貴功能性材料

  應用:微透鏡、焊膏、絕緣膠、光子芯片局部介質層,無需整片旋涂

  二、全系通用核心技術(SUSS涂層機標志性特點)

  GYRSET®密閉旋涂核心技術

  封閉腔體形成均勻飽和溶劑氛圍,抑制邊緣溶劑快速揮發,膜厚一致性行業頂尖;同時減少光刻膠揮發損耗,降低耗材成本。

  超寬膜厚適配能力

  一套設備兼容納米級薄膠~數百微米厚膠,覆蓋光刻膠、臨時鍵合膠、PI聚酰亞胺、BCB鈍化層、光學涂層。

  全襯底兼容

  硅、石英玻璃、碳化硅SiC、氮化鎵GaN、藍寶石、超薄載片、翹曲晶圓、方形基板、小片樣品均可加工。

  一體化工藝集成

  單設備可整合:旋涂/噴霧/噴墨涂布→邊緣去膠EBR→背清洗→PEB烘烤→顯影,減少多臺設備轉運帶來的污染與良率損失。

  低缺陷潔凈設計

  全機防靜電ESD、防腐不銹鋼腔體、藥液多級過濾、自動腔體清洗,適配Class1/10超高潔凈間。

  研發→量產工藝無縫遷移

  LabSpin/RCD研發配方可直接導入ACS量產平臺,工藝參數無偏移,大幅縮短新產品轉產周期。

  三、典型應用領域

  先進半導體封裝:FO-WLP、2.5D/3DIC、TSV臨時鍵合膠涂布

  MEMS傳感器:陀螺儀、壓力傳感器、微流控厚膠圖形化

  寬禁帶功率器件:SiC/GaN車載、快充器件溝槽噴霧涂覆

  光電子:VCSEL、Mini/MicroLED、光學微透鏡、衍射光學元件

  科研院所:微納加工實驗室、光子芯片、生物微流控芯片研發

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