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SUSS MicroTec鍍膜熱板HP8

SUSS MicroTec鍍膜熱板HP8
  SUSS涂層機(jī)全部由德國Sternenfels廠區(qū)SUSSMicroTecSolutions生產(chǎn),分為實驗室手動、半自動中試、全自動量產(chǎn)、噴霧涂層、噴墨涂布五大產(chǎn)品線,覆蓋旋涂、噴霧、噴墨三種涂布工藝,適配6–12英寸晶圓、MEMS、先進(jìn)封裝、光電子、功率半導(dǎo)體全場景。

  • 產(chǎn)品型號:LABSPIN 8TT
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2026-07-08
  • 訪  問  量:113
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產(chǎn)品詳情

SUSS MicroTec鍍膜熱板HP8

  SUSS涂層機(jī)全部由德國Sternenfels廠區(qū)SUSSMicroTecSolutions生產(chǎn),分為實驗室手動、半自動中試、全自動量產(chǎn)、噴霧涂層、噴墨涂布五大產(chǎn)品線,覆蓋旋涂、噴霧、噴墨三種涂布工藝,適配6–12英寸晶圓、MEMS、先進(jìn)封裝、光電子、功率半導(dǎo)體全場景。

  一、產(chǎn)品定位

  HP8是LabSpin/RCD8勻膠涂層機(jī)配套專用手動熱板,德國Sternenfels廠區(qū)SUSSMicroTecSolutions制造,面向?qū)嶒炇已邪l(fā)、8寸及以下小批量光刻工藝,完成光刻膠前烘、軟烘、PEB曝光后烘烤、PI/臨時鍵合膠堅膜退火全工序。

  適配組合

  可與LabSpin6/8旋涂機(jī)、RCD8涂顯一體機(jī)成套聯(lián)動,尺寸、控制系統(tǒng)統(tǒng)一,研發(fā)工藝完整閉環(huán)。

  二、核心基礎(chǔ)參數(shù)

  基板規(guī)格

  最大200mm(8英寸)圓形晶圓;最大6英寸方形基板;兼容薄片、翹曲片、碎片試樣、SiC/GaN/玻璃襯底

  溫控區(qū)間:室溫~250℃

  溫控精度

  ≤120℃:±0.5℃;120~250℃:±1%;板面全域溫度均勻性≤±0.3℃

  升溫速率:0–10℃/min線性可調(diào),階梯升溫防熱沖擊

  程序存儲:200組獨(dú)立工藝配方,單配方支持40段溫時曲線

  取片結(jié)構(gòu):三點(diǎn)升降頂針,真空吸附可選,減少晶圓劃傷

  控制:獨(dú)立彩色觸摸屏,工藝曲線實時記錄、數(shù)據(jù)導(dǎo)出溯源

SUSS MicroTec鍍膜熱板HP8

  三、核心技術(shù)與主要優(yōu)勢

  1.線圈全域加熱,無冷熱斑(核心亮點(diǎn))

  放棄傳統(tǒng)單加熱棒,底板內(nèi)嵌多層精密排布加熱線圈,配合閉環(huán)PID控溫,整片基板溫度無局部高低溫,解決厚膠、SU-8、PI烘烤不均導(dǎo)致的膜厚差、圖形畸變、針孔缺陷,工藝重復(fù)性很強(qiáng)。

  2.全工藝覆蓋,適配各類涂層材料

  一套設(shè)備覆蓋涂層全流程烘烤:

  光刻膠軟烘、PEB曝光后烘烤(決定CD線寬精度)

  SUSS涂層機(jī)厚膠SU-8、聚酰亞胺PI、臨時鍵合膠高溫堅膜

  化合物半導(dǎo)體、MEMS微流控薄膜退火

  可搭配選配氮?dú)獯祾吣K,隔絕氧氣,適配光敏、易氧化敏感材料;選配近接烘烤ProximityBake,降低熱應(yīng)力,超薄晶圓不變形

  SUSSHP8手動熱板核心主要特點(diǎn)

  一、全域均勻精密加熱(核心工藝亮點(diǎn))

  多層環(huán)繞線圈加熱結(jié)構(gòu),區(qū)別傳統(tǒng)單加熱棒,板面無熱點(diǎn)、冷區(qū),整片基板受熱高度均勻;

  溫控范圍:室溫~250℃;≤120℃精度±0.5℃,120–250℃精度±1%,板面均勻性≤±0.3℃;

  升溫速率0–10℃/min線性可調(diào),支持階梯升溫,杜絕超薄晶圓、厚膠受熱沖擊,避免針孔、圖形偏移、膜厚不均缺陷。

  二、大容量可編程工藝系統(tǒng),實驗可高度復(fù)現(xiàn)

  機(jī)身可存儲200套獨(dú)立工藝配方,單配方最多40段溫時分段程序,單步時長精確到1秒調(diào)節(jié);

  彩色觸控屏可視化操作,實時顯示溫度曲線,自動記錄、導(dǎo)出完整工藝日志,滿足研發(fā)數(shù)據(jù)溯源要求;

  配方分級權(quán)限管理,防止誤改參數(shù),多人實驗工藝標(biāo)準(zhǔn)統(tǒng)一。

  三、寬規(guī)格基板通用,適配多類襯底

  最大加工200mm(8英寸)圓形晶圓,兼容6英寸方形基板、小片試樣、薄片/翹曲晶圓;

  兼容硅、玻璃、石英、SiC/GaN、藍(lán)寶石、臨時鍵合載片等各類半導(dǎo)體襯底;

  標(biāo)配三點(diǎn)升降頂針,可選真空吸附固定,取片不易劃傷晶圓。

  晶圓取放操作

  四、多安裝形態(tài),配套SUSS涂層設(shè)備

  三種機(jī)身版本靈活部署:

  HP8TT:臺式桌面款,搭配LabSpin6/8臺式勻膠機(jī);

  HP8BM:機(jī)架嵌入式,集成RCD8涂膠顯影一體機(jī);

  HP8T:獨(dú)立落地立式,支持多臺集群使用;

  整機(jī)控制邏輯、工藝算法與LabSpin/RCD8互通,研發(fā)配方可無縫遷移至ACS量產(chǎn)涂覆平臺,無需重復(fù)工藝驗證。

  五、潔凈耐用,低維護(hù)設(shè)計

  加熱板面耐化學(xué)防護(hù)涂層,光刻膠、溶劑殘留易擦拭清潔;

  整機(jī)316L不銹鋼腔體,全流程ESD防靜電,適配Class10/100潔凈間;

  模塊化腔體結(jié)構(gòu),保養(yǎng)拆卸簡單,縮短停機(jī)維護(hù)時間。

SUSS MicroTec鍍膜熱板HP8

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